掩模版自动化设计平台
通过生成最优布局和最大化利用光刻机曝光区域,减少单片晶圆曝光时间,提高光刻机利用率和产能。
通过自动化关键tapeout 步骤,FAR 大幅提升 tapeout 效率,减少人为错误,全面保障质量把控。
加速tapeout 流程,缩短产品上市时间。
通过生成精确的监测图形和对准标记,提高了生产质量,降低了生产成本,助力设计团队专注于半导体技术开发和创新。
为芯片制造厂tapeout部门
提供从chip到mask一站式解决方案
支持Floorplan摆放、测试图形摆放、
wafermap可视化和客制化功能交互界面
为晶圆制造厂和光罩厂
在Tapeout进程中自动生成图形和文件
晶圆代工厂
tapeout
设计公司
GDS 信息提取