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FabLitho | FAR

FabLitho

先进的光刻工艺建模和仿真工具

光刻工艺建模平台 光刻胶模型 弱点图形优化

FabLitho 是一款国内领先的光刻工艺建模和仿真工具，可针对多种投影设备建立包含镜头畸变的光学模型，并通过高自由度的建模方法模拟光刻胶在不同条件下的性能表现。

  • 适用于先进工艺节点。

  • 覆盖半导体芯片制造、平板显示制造、先进芯片封装等应用领域。

  • 已在国内部分先进 Fab 中成功验证。

  • 通过严格仿真的方法获取不同工艺参数下工艺窗口数值，有效减少晶圆曝光和人工量测的需求，大幅提升工艺开发效率。

  • 支持与其他工艺仿真工具结合，应用于掩膜版关键图形的工艺仿真优化，降低实际生产中图形失效的风险。

下载产品单页

产品亮点

  • 业界标准的光学模型

    支持掩模版三维效应、
    FreeForm 光源

  • 光刻设备模型

    支持投影倍率、入射角度、
    镜头畸变、琼斯矩阵

  • 业界标准的经验模型

    包含 Dill 模型，曝光后烘烤扩散和化学反应
    模型，曝光后显影模型，光刻胶收缩效应

  • 多种曝光工艺

    支持单次曝光工艺、二次曝光工艺(LLE)
    和多焦深成像工艺(MFI)

  • 光刻胶模型校准功能

    内建多参数优化引擎，可以根据晶圆数据
    和光学参数拟合光刻胶模型

  • 灵活的数据可视化界面

    支持仿真结果
    和外部数据的可视化

  • 丰富的二次开发接口

    内置C和Python开发接口，
    CVS和JSON数据交互格式

  • 多格式输出

    支持输出 TXT、GDSII、STL
    文件格式

产品应用

  • 光刻工艺的工艺窗口
    仿真和参数优化

  • 关键图形
    仿真和优化

  • OPC模型参数
    开发辅助

  • 光刻胶参数
    评估和优化

  • 光刻设备参数
    评估和优化

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